<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>שתילה בעציץ on UV Lamp Factory</title>
		<link>http://uv-lamp-factory.com/he/tags/%D7%A9%D7%AA%D7%99%D7%9C%D7%94-%D7%91%D7%A2%D7%A6%D7%99%D7%A5/</link>
		<description>Recent content in שתילה בעציץ on UV Lamp Factory</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>he</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 08:52:31 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-factory.com/he/tags/%D7%A9%D7%AA%D7%99%D7%9C%D7%94-%D7%91%D7%A2%D7%A6%D7%99%D7%A5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>מנורת ייבוש באור UV לאריזה אלקטרונית</title>
				<link>http://uv-lamp-factory.com/he/posts/uv-curing-lamp-for-electronic-potting/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 08:52:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-factory.com/he/posts/uv-curing-lamp-for-electronic-potting/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-factory.com/images/922aaf5f9a907f1d60ed6f8e999563af.png&#34; alt=&#34;מנורת ייבוש באור UV לאריזה אלקטרונית&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;על הרצפה, תהליך הייבוש האלקטרוני תלוי בשניות ובמילימטרים – זמן הטיפול, עומק הייבוש, וכו’. ייבוש לא מספיק גורם לסדקים מיקרוסקופיים, להפרדת שכבות החומר, ולכשלים שמתגלים בשימוש העקיף. ייבוש יתר גורם ללחץ על החלקים. הנורה צריכה לספק אנרגיה עקבית, ולא אנרגיה לא סדירה.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;מה חשוב מאחורי הקלעים&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;אנו בונים את נורות הייבוש באמצעות קרינה באורך גל של 365 ננומטר, שכן זהו אורך הגל שתואם את החומרים הפוטואיניציאטוריים ברוב חומרי האפוקסי והסיליקון. עוצמת הקרינה מותאמת ל-12–16 ואט/סמ², כך שהעוצמה הכוללת של האנרגיה שמגיעה לחומר היא 3–6 ג’אוול/סמ², במהירויות עבודה טיפוסיות.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
